The hydrogen gettering at post-implantation hydrogen plasma treatments of helium- and hydrogen implanted Czochralski silicon: Fid-Bau Portal

The hydrogen gettering at post-implantation hydrogen plasma treatments of helium- and hydrogen implanted Czochralski silicon

Ulyashin, A. G. / Ivanov, A. I. / Job, R. / Fahrner, W. R. / Frantskevich, A. V. / Komarov, F. F. / Kamyshan, A. C.

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Ulyashin, A. G. / Ivanov, A. I. / Job, R. / Fahrner, W. R. / Frantskevich, A. V. / Komarov, F. F. / Kamyshan, A. C.

The hydrogen gettering at post-implantation hydrogen plasma treatments of helium- and hydrogen implanted Czochralski silicon

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Titel:

The hydrogen gettering at post-implantation hydrogen plasma treatments of helium- and hydrogen implanted Czochralski silicon

Beteiligte:

Ulyashin, A. G. (Autor:in) / Ivanov, A. I. (Autor:in) / Job, R. (Autor:in) / Fahrner, W. R. (Autor:in) / Frantskevich, A. V. (Autor:in) / Komarov, F. F. (Autor:in) / Kamyshan, A. C. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING -LAUSANNE- B ; 73 ; 64 - 68

Erscheinungsdatum:

01.01.2000

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0921-5107

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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