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    Titel:

    Oxidation mechanism of fluorocarbon-incorporated silica for interlayer dielectric materials

    Beteiligte:

    Sugahara, S. (Autor:in) / Fukumura, T. (Autor:in) / Matsumura, M. (Autor:in)

    Erschienen in:

    MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING ; 3 ; 79-84

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2000

    Format / Umfang:

    6 pages

    ISSN:

    1369-8001

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.38152

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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