Electrical Characteristics and Surface Morphology for Arsenic Ion-Implanted 4H-SiC at High Temperature: Fid-Bau Portal

Electrical Characteristics and Surface Morphology for Arsenic Ion-Implanted 4H-SiC at High Temperature

Senzaki, J. / Fukuda, K. / Imai, S. / Tanaka, Y. / Kobayashi, N. / Tanoue, H. / Okushi, H. / Arai, K.

Zugriff

Zugriff über TIB

Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen

Bestellung bei Subito €

Seitennavigation

Dokumentinformationen

Ähnliche Titel

Exportieren, teilen und zitieren

Electrical Characteristics and Surface Morphology for Arsenic Ion-Implanted 4H-SiC at High Temperature

Senzaki, J. / Fukuda, K. / Imai, S. / Tanaka, Y. / Kobayashi, N. / Tanoue, H. / Okushi, H. / Arai, K.

Electrical Characteristics and Surface Morphology for Arsenic Ion-Implanted 4H-SiC at High Temperature

Senzaki, J. / Fukuda, K. / Imai, S. / Tanaka, Y. / Kobayashi, N. / Tanoue, H. / Okushi, H. / Arai, K.

Zugriff

Zugriff über TIB

Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen

Bestellung bei Subito €

Seitennavigation

Dokumentinformationen

Ähnliche Titel

Exportieren, teilen und zitieren

Dokumentinformationen

Titel:

Electrical Characteristics and Surface Morphology for Arsenic Ion-Implanted 4H-SiC at High Temperature

Beteiligte:

Senzaki, J. (Autor:in) / Fukuda, K. (Autor:in) / Imai, S. (Autor:in) / Tanaka, Y. (Autor:in) / Kobayashi, N. (Autor:in) / Tanoue, H. (Autor:in) / Okushi, H. (Autor:in) / Arai, K. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE FORUM ; 338/342 ; 865-868

Erscheinungsdatum:

01.01.2000

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

0255-5476

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

Senzaki, J. / Fukuda, K. / Imai, S. et al. | British Library Online Contents | 2000

Evolution of arsenic in high fluence plasma immersion ion implanted silicon: Behavior of the as-implanted surface

Vishwanath, V. / Demenev, E. / Giubertoni, D. et al. | British Library Online Contents | 2015

Post-Implantation Annealing Effects on the Surface Morphology and Electrical Characteristics of 6H-SiC Implanted with Aluminum

Ohi, A. / Ohshima, T. / Yoshikawa, M. et al. | British Library Online Contents | 2002

Evolution of arsenic in high fluence plasma immersion ion implanted silicon: Behavior of the as-implanted surface

Vishwanath, V. / Demenev, E. / Giubertoni, D. et al. | British Library Online Contents | 2015

Evolution of arsenic in high fluence plasma immersion ion implanted silicon: Behavior of the as-implanted surface

Vishwanath, V. / Demenev, E. / Giubertoni, D. et al. | British Library Online Contents | 2015

Nach oben