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    Titel:

    Hydrogen-mediated low-temperature epitaxy of Si in plasma-enhanced chemical vapor deposition

    Beteiligte:

    Kitagawa, T. (Autor:in) / Kondo, M. (Autor:in) / Matsuda, A. (Autor:in)

    Erschienen in:

    APPLIED SURFACE SCIENCE ; 159-160 ; 30-34

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2000

    Format / Umfang:

    5 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.35

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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