Residual stresses in chemical vapor deposition free-standing diamond films by X-ray diffraction analyses: Fid-Bau Portal

Residual stresses in chemical vapor deposition free-standing diamond films by X-ray diffraction analyses

Durand, O. / Bisaro, R. / Brierley, C. J. / Galtier, P. / Kennedy, G. R. / Kruger, J. K. / Olivier, J.

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Titel:

Residual stresses in chemical vapor deposition free-standing diamond films by X-ray diffraction analyses

Beteiligte:

Durand, O. (Autor:in) / Bisaro, R. (Autor:in) / Brierley, C. J. (Autor:in) / Galtier, P. (Autor:in) / Kennedy, G. R. (Autor:in) / Kruger, J. K. (Autor:in) / Olivier, J. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING -LAUSANNE- A ; 288 ; 217 - 222

Erscheinungsdatum:

01.01.2000

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

0921-5093

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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