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    Titel:

    Effects of deposition and annealing conditions on the structure and electrical properties of LPCVD silicon thin films

    Beteiligte:

    Das, S. (Autor:in) / Shriram, R. (Autor:in) / Bhat, K. N. (Autor:in) / Rao, P. R. S. (Autor:in)

    Erschienen in:

    JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE ; 35 ; 4743-4746

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2000

    Format / Umfang:

    4 pages

    ISSN:

    0022-2461

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.11

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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