Atomic layer deposition of titanium dioxide from TiCl4 and H2O: investigation of growth mechanism: Fid-Bau Portal

Atomic layer deposition of titanium dioxide from TiCl4 and H2O: investigation of growth mechanism

Aarik, J. / Aidla, A. / Mandar, H. / Uustare, T.

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Titel:

Atomic layer deposition of titanium dioxide from TiCl4 and H2O: investigation of growth mechanism

Beteiligte:

Aarik, J. (Autor:in) / Aidla, A. (Autor:in) / Mandar, H. (Autor:in) / Uustare, T. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 172 ; 148-158

Erscheinungsdatum:

01.01.2001

Format / Umfang:

11 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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