Optical and electrical properties of p-type transparent conducting Cu-Al-O thin films prepared by plasma enhanced chemical vapor deposition: Fid-Bau Portal

Optical and electrical properties of p-type transparent conducting Cu-Al-O thin films prepared by plasma enhanced chemical vapor deposition

Wang, Y. / Gong, H. / Zhu, F. / Liu, L. / Huang, L. / Huan, A. C.

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Titel:

Optical and electrical properties of p-type transparent conducting Cu-Al-O thin films prepared by plasma enhanced chemical vapor deposition

Beteiligte:

Wang, Y. (Autor:in) / Gong, H. (Autor:in) / Zhu, F. (Autor:in) / Liu, L. (Autor:in) / Huang, L. (Autor:in) / Huan, A. C. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING -LAUSANNE- B ; 85 ; 131 - 134

Erscheinungsdatum:

01.01.2001

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

0921-5107

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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