Growth and characterization of aluminum oxide films by plasma-assisted atomic layer deposition: Fid-Bau Portal

Growth and characterization of aluminum oxide films by plasma-assisted atomic layer deposition

Jeong, C. W. / Lee, B. i. / Joo, S. K.

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Titel:

Growth and characterization of aluminum oxide films by plasma-assisted atomic layer deposition

Beteiligte:

Jeong, C. W. (Autor:in) / Lee, B. i. (Autor:in) / Joo, S. K. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING -AMSTERDAM THEN LAUSANNE- C ; 16 ; 59-64

Erscheinungsdatum:

01.01.2001

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

0928-4931

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.1 / 660

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