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    Dokumentinformationen
    Titel:

    Comparison of plasma etch chemistries for MgO

    Beteiligte:

    Baik, K. H. (Autor:in) / Park, P. Y. (Autor:in) / Gila, B. P. (Autor:in) / Shin, J. H. (Autor:in) / Abernathy, C. R. (Autor:in) / Norasetthekul, S. (Autor:in) / Luo, B. (Autor:in) / Ren, F. (Autor:in) / Lambers, E. S. (Autor:in) / Pearton, S. J. (Autor:in)

    Erschienen in:

    APPLIED SURFACE SCIENCE ; 183 ; 26-32

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2001

    Format / Umfang:

    7 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.35

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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