Optical diagnostics of plasma chemistries and chamber conditions in gate oxide stack etch: Fid-Bau Portal

Optical diagnostics of plasma chemistries and chamber conditions in gate oxide stack etch

Lee, S. / Tien, Y.-C. / Ni, C.-J.

Zugriff

Zugriff über TIB

Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen

Bestellung bei Subito €

Seitennavigation

Dokumentinformationen

Ähnliche Titel

Exportieren, teilen und zitieren

Optical diagnostics of plasma chemistries and chamber conditions in gate oxide stack etch

Lee, S. / Tien, Y.-C. / Ni, C.-J.

Optical diagnostics of plasma chemistries and chamber conditions in gate oxide stack etch

Lee, S. / Tien, Y.-C. / Ni, C.-J.

Zugriff

Zugriff über TIB

Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen

Bestellung bei Subito €

Seitennavigation

Dokumentinformationen

Ähnliche Titel

Exportieren, teilen und zitieren

Dokumentinformationen

Titel:

Optical diagnostics of plasma chemistries and chamber conditions in gate oxide stack etch

Beteiligte:

Lee, S. (Autor:in) / Tien, Y.-C. (Autor:in) / Ni, C.-J. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING ; 16 ; 282-287

Erscheinungsdatum:

01.01.2013

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

1369-8001

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.38152

Baik, K. H. / Park, P. Y. / Gila, B. P. et al. | British Library Online Contents | 2001

Dry etch chemistries for TiO2 thin films

Norasetthekul, S. / Park, P. Y. / Baik, K. H. et al. | British Library Online Contents | 2001

New dry-etch chemistries for III-V semiconductors

Pearton, S. J. / Chakrabarti, U. K. / Ren, F. et al. | British Library Online Contents | 1994

Interhalogen plasma chemistries for dry etch patterning of Ni, Fe, NiFe and NiFeCo thin films

Cho, H. / Jung, K. B. / Hays, D. C. et al. | British Library Online Contents | 1999

Powder for coating an etch chamber

ALLIMANT ALAIN / WALLAR HOWARD | Europäisches Patentamt | 2023

Freier Zugriff

Nach oben