Dry etch chemistries for TiO2 thin films: Fid-Bau Portal

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Dry etch chemistries for TiO2 thin films

Norasetthekul, S. / Park, P. Y. / Baik, K. H. / Lee, K. P. / Shin, J. H. / Jeong, B. S. / Shishodia, V. / Lambers, E. S. / Norton, D. P. / Pearton, S. J.

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Titel:

Dry etch chemistries for TiO2 thin films

Beteiligte:

Norasetthekul, S. (Autor:in) / Park, P. Y. (Autor:in) / Baik, K. H. (Autor:in) / Lee, K. P. (Autor:in) / Shin, J. H. (Autor:in) / Jeong, B. S. (Autor:in) / Shishodia, V. (Autor:in) / Lambers, E. S. (Autor:in) / Norton, D. P. (Autor:in) / Pearton, S. J. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 185 ; 27-33

Erscheinungsdatum:

01.01.2001

Format / Umfang:

7 pages

ISSN:

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Print

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

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