Correlation between processing and properties of TiOxNy thin films sputter deposited by the reactive gas pulsing technique: Fid-Bau Portal

Correlation between processing and properties of TiOxNy thin films sputter deposited by the reactive gas pulsing technique

Martin, N. / Banakh, O. / Santo, A. M. / Springer, S. / Sanjines, R. / Takadoum, J. / Levy, F.

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Titel:

Correlation between processing and properties of TiOxNy thin films sputter deposited by the reactive gas pulsing technique

Beteiligte:

Martin, N. (Autor:in) / Banakh, O. (Autor:in) / Santo, A. M. (Autor:in) / Springer, S. (Autor:in) / Sanjines, R. (Autor:in) / Takadoum, J. (Autor:in) / Levy, F. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 185 ; 123-133

Erscheinungsdatum:

01.01.2001

Format / Umfang:

11 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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