Titanium oxynitride thin films sputter deposited by the reactive gas pulsing process: Fid-Bau Portal

Titanium oxynitride thin films sputter deposited by the reactive gas pulsing process

Chappe, J. M. / Martin, N. / Lintymer, J. / Sthal, F. / Terwagne, G. / Takadoum, J.

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Titel:

Titanium oxynitride thin films sputter deposited by the reactive gas pulsing process

Beteiligte:

Chappe, J. M. (Autor:in) / Martin, N. (Autor:in) / Lintymer, J. (Autor:in) / Sthal, F. (Autor:in) / Terwagne, G. (Autor:in) / Takadoum, J. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 253 ; 5312-5316

Erscheinungsdatum:

01.01.2007

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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