Eine Plattform für die Wissenschaft: Bauingenieurwesen, Architektur und Urbanistik
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Layer-by-layer etching of Cl-adsorbed silicon surfaces by low energy Ar+ ion irradiation
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Layer-by-layer etching of Cl-adsorbed silicon surfaces by low energy Ar+ ion irradiation
Kim, B. J. (Autor:in) / Chung, S. (Autor:in) / Cho, S. M. (Autor:in)
APPLIED SURFACE SCIENCE ; 187 ; 124-129
01.01.2002
6 pages
Aufsatz (Zeitschrift)
Englisch
DDC:
621.35
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