Room-temperature oxidation of ultrathin TiB~2 films: Fid-Bau Portal

Room-temperature oxidation of ultrathin TiB~2 films

Huang, F. / Liu, W. J. / Sullivan, J. F. / Barnard, J. A. / Weaver, M. L.

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Titel:

Room-temperature oxidation of ultrathin TiB~2 films

Beteiligte:

Huang, F. (Autor:in) / Liu, W. J. (Autor:in) / Sullivan, J. F. (Autor:in) / Barnard, J. A. (Autor:in) / Weaver, M. L. (Autor:in)

Erschienen in:

JOURNAL OF MATERIALS RESEARCH -PITTSBURGH- ; 17 ; 805-813

Erscheinungsdatum:

01.01.2002

Format / Umfang:

9 pages

ISSN:

0884-2914

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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