Dry etching of sapphire substrate for device separation in chlorine-based inductively coupled plasmas: Fid-Bau Portal

Dry etching of sapphire substrate for device separation in chlorine-based inductively coupled plasmas

Jeong, C. H. / Kim, D. W. / Bae, J. W. / Sung, Y. J. / Kwak, J. S. / Park, Y. J. / Yeom, G. Y.

Zugriff

Zugriff über TIB

Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen

Bestellung bei Subito €

Seitennavigation

Dokumentinformationen

Ähnliche Titel

Exportieren, teilen und zitieren

Dry etching of sapphire substrate for device separation in chlorine-based inductively coupled plasmas

Jeong, C. H. / Kim, D. W. / Bae, J. W. / Sung, Y. J. / Kwak, J. S. / Park, Y. J. / Yeom, G. Y.

Dry etching of sapphire substrate for device separation in chlorine-based inductively coupled plasmas

Jeong, C. H. / Kim, D. W. / Bae, J. W. / Sung, Y. J. / Kwak, J. S. / Park, Y. J. / Yeom, G. Y.

Zugriff

Zugriff über TIB

Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen

Bestellung bei Subito €

Seitennavigation

Dokumentinformationen

Ähnliche Titel

Exportieren, teilen und zitieren

Dokumentinformationen

Titel:

Dry etching of sapphire substrate for device separation in chlorine-based inductively coupled plasmas

Beteiligte:

Jeong, C. H. (Autor:in) / Kim, D. W. (Autor:in) / Bae, J. W. (Autor:in) / Sung, Y. J. (Autor:in) / Kwak, J. S. (Autor:in) / Park, Y. J. (Autor:in) / Yeom, G. Y. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B -LAUSANNE- ; 93 ; 60 - 63

Erscheinungsdatum:

01.01.2002

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

0921-5107

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

Sung, Y. J. / Kim, H. S. / Lee, Y. H. et al. | British Library Online Contents | 2001

Kinetics of etching in inductively coupled plasmas

Kim, M. T. | British Library Online Contents | 2004

Characteristics of Ir etching using Ar/Cl2 inductively coupled plasmas

PARK, S. G. / KIM, C. W. / SONG, H. Y. et al. | British Library Online Contents | 2005

Development of optical computerized tomography in capacitively coupled plasmas and inductively coupled plasmas for plasma etching

Makabe, T. / Petrovic, Z. L. | British Library Online Contents | 2002

Dry etching characteristics of GaN using Cl2/BCl3 inductively coupled plasmas

Zhou, S. / Cao, B. / Liu, S. | British Library Online Contents | 2010

Nach oben