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Chemical Mechanical Polishing of Computer Hard Disk Substrate in Colloidal SiO~2 Slurry

Lei, H.

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Titel:

Chemical Mechanical Polishing of Computer Hard Disk Substrate in Colloidal SiO~2 Slurry

Beteiligte:

Lei, H. (Autor:in)

Erschienen in:

INTERNATIONAL JOURNAL OF NONLINEAR SCIENCES AND NUMERICAL SIMULATION ; 3 ; 455-460

Erscheinungsdatum:

01.01.2002

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

1565-1339

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 515.355

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