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Characteristics of copper films produced via atomic layer deposition

Huo, J. / Solanki, R. / McAndrew, J.

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Titel:

Characteristics of copper films produced via atomic layer deposition

Beteiligte:

Huo, J. (Autor:in) / Solanki, R. (Autor:in) / McAndrew, J. (Autor:in)

Erschienen in:

JOURNAL OF MATERIALS RESEARCH -PITTSBURGH- ; 17 ; 2394-2398

Erscheinungsdatum:

01.01.2002

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0884-2914

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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