Defect requirements for advanced 300mm DRAM substrates: Fid-Bau Portal

Defect requirements for advanced 300mm DRAM substrates

Kupfer, C. / Roth, H. / Dietrich, H.

Zugriff

Zugriff über TIB

Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen

Bestellung bei Subito €

Seitennavigation

Dokumentinformationen

Ähnliche Titel

Exportieren, teilen und zitieren

Defect requirements for advanced 300mm DRAM substrates

Kupfer, C. / Roth, H. / Dietrich, H.

Defect requirements for advanced 300mm DRAM substrates

Kupfer, C. / Roth, H. / Dietrich, H.

Zugriff

Zugriff über TIB

Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen

Bestellung bei Subito €

Seitennavigation

Dokumentinformationen

Ähnliche Titel

Exportieren, teilen und zitieren

Dokumentinformationen

Titel:

Defect requirements for advanced 300mm DRAM substrates

Beteiligte:

Kupfer, C. (Autor:in) / Roth, H. (Autor:in) / Dietrich, H. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING ; 5 ; 381-386

Erscheinungsdatum:

01.01.2002

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

1369-8001

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.38152

Pfitzner, L. / Kucher, P. | British Library Online Contents | 2002

Doubleside polishing-a technology mandatory for 300mm wafer manufacturing

Wenski, G. / Altmann, T. / Winkler, W. et al. | British Library Online Contents | 2002

Advanced metallization technology for 256M DRAM

Kuecher, P. / Aochi, H. / Gambino, J. et al. | British Library Online Contents | 1996

Oxide precipitates in annealed nitrogen-doped 300mm CZ-SI

Akhmetov, V. D. / Richter, H. / Lysytskiy, O. et al. | British Library Online Contents | 2002

Design and Construction Issues for 300mm Semiconductor Manufacturing Facilities

Merchant, S. / Chasey, A. / American Society of Civil Engineers | British Library Conference Proceedings | 2000

Nach oben