Growth and Characterization of Epitaxial Wurtzite Al~1~-~xIn~xN Thin Films Deposited by UHV Reactive Dual DC Magnetron Sputtering: Fid-Bau Portal

Growth and Characterization of Epitaxial Wurtzite Al~1~-~xIn~xN Thin Films Deposited by UHV Reactive Dual DC Magnetron Sputtering

Seppanen, T. / Radnoczi, G. Z. / Tungasmita, S. / Hultman, L. / Birch, J.

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Titel:

Growth and Characterization of Epitaxial Wurtzite Al~1~-~xIn~xN Thin Films Deposited by UHV Reactive Dual DC Magnetron Sputtering

Beteiligte:

Seppanen, T. (Autor:in) / Radnoczi, G. Z. (Autor:in) / Tungasmita, S. (Autor:in) / Hultman, L. (Autor:in) / Birch, J. (Autor:in) / Bergman, P. / Janzen, E.

Erschienen in:

Silicon Carbide and Related Materials 2002 ; 987-990

MATERIALS SCIENCE FORUM ; 433/436

Erscheinungsdatum:

01.01.2003

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

0255-5476

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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