Production-ready dry cleaning and deposition processes for low-temperature Si and SiGe epitaxy: Fid-Bau Portal

Production-ready dry cleaning and deposition processes for low-temperature Si and SiGe epitaxy

Buschbeck, H. M. / Erhart, A. / Goeggel, Y. / Rosenblad, C. / Wiltsche, S. / Ramm, J. / Dommann, A. / Kummer, M.

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Titel:

Production-ready dry cleaning and deposition processes for low-temperature Si and SiGe epitaxy

Beteiligte:

Buschbeck, H. M. (Autor:in) / Erhart, A. (Autor:in) / Goeggel, Y. (Autor:in) / Rosenblad, C. (Autor:in) / Wiltsche, S. (Autor:in) / Ramm, J. (Autor:in) / Dommann, A. (Autor:in) / Kummer, M. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 224 ; 36-40

Erscheinungsdatum:

01.01.2004

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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