Investigations on hardness of rf sputter deposited SiCN thin films: Fid-Bau Portal

Investigations on hardness of rf sputter deposited SiCN thin films

Sundaram, K. B. / Alizadeh, Z. / Todi, R. M. / Desai, V. H.

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Titel:

Investigations on hardness of rf sputter deposited SiCN thin films

Beteiligte:

Sundaram, K. B. (Autor:in) / Alizadeh, Z. (Autor:in) / Todi, R. M. (Autor:in) / Desai, V. H. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING A ; 368 ; 103-108

Erscheinungsdatum:

01.01.2004

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

0921-5093

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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