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    Titel:

    Elasticity and resistivity study on the electromigration effects observed in aluminum-silicon-copper alloy thin films

    Beteiligte:

    Mizubayashi, H. (Autor:in) / Kashimura, D. (Autor:in) / Yokota, K. (Autor:in) / Tanimoto, H. (Autor:in)

    Erschienen in:

    MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING A ; 370 ; 168-171

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2004

    Format / Umfang:

    4 pages

    ISSN:

    0921-5093

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.11

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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