Effects of crystalline regrowth on dopant profiles in preamorphized silicon: Fid-Bau Portal

Effects of crystalline regrowth on dopant profiles in preamorphized silicon

Hopstaken, M. J. P. / Tamminga, Y. / Verheijen, M. A. / Duffy, R. / Venezia, V. C. / Heringa, A.

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Titel:

Effects of crystalline regrowth on dopant profiles in preamorphized silicon

Beteiligte:

Hopstaken, M. J. P. (Autor:in) / Tamminga, Y. (Autor:in) / Verheijen, M. A. (Autor:in) / Duffy, R. (Autor:in) / Venezia, V. C. (Autor:in) / Heringa, A. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 231/232 ; 688-692

Erscheinungsdatum:

01.01.2004

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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