Nickel induced lateral crystallization behavior of amorphous silicon films: Fid-Bau Portal

Nickel induced lateral crystallization behavior of amorphous silicon films

Li, J. F. / Sun, X. W. / Yu, M. B. / Qi, G. J. / Zeng, X. T.

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Titel:

Nickel induced lateral crystallization behavior of amorphous silicon films

Beteiligte:

Li, J. F. (Autor:in) / Sun, X. W. (Autor:in) / Yu, M. B. (Autor:in) / Qi, G. J. (Autor:in) / Zeng, X. T. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 240 ; 155-160

Erscheinungsdatum:

01.01.2005

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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