Solid-phase epitaxial regrowth of a shallow amorphised Si layer studied by X-ray and medium energy ion scattering: Fid-Bau Portal

Solid-phase epitaxial regrowth of a shallow amorphised Si layer studied by X-ray and medium energy ion scattering

Capello, L. / Metzger, T. H. / Werner, M. / van den Berg, J. A. / Servidori, M. / Herden, M. / Feudel, T.

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Titel:

Solid-phase epitaxial regrowth of a shallow amorphised Si layer studied by X-ray and medium energy ion scattering

Beteiligte:

Capello, L. (Autor:in) / Metzger, T. H. (Autor:in) / Werner, M. (Autor:in) / van den Berg, J. A. (Autor:in) / Servidori, M. (Autor:in) / Herden, M. (Autor:in) / Feudel, T. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B -LAUSANNE- ; 124-125 ; 200-204

Erscheinungsdatum:

01.01.2005

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0921-5107

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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