Understanding the role of buried Si/SiO2 interface on dopant and defect evolution in PAI USJ: Fid-Bau Portal

Understanding the role of buried Si/SiO2 interface on dopant and defect evolution in PAI USJ

Hamilton, J. J. / Collart, E. J. / Colombeau, B. / Bersani, M. / Giubertoni, D. / Sharp, J. A. / Cowern, N. E. / Kirkby, K. J.

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Titel:

Understanding the role of buried Si/SiO2 interface on dopant and defect evolution in PAI USJ

Beteiligte:

Hamilton, J. J. (Autor:in) / Collart, E. J. (Autor:in) / Colombeau, B. (Autor:in) / Bersani, M. (Autor:in) / Giubertoni, D. (Autor:in) / Sharp, J. A. (Autor:in) / Cowern, N. E. (Autor:in) / Kirkby, K. J. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B -LAUSANNE- ; 124-125 ; 215-218

Erscheinungsdatum:

01.01.2005

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

0921-5107

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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