Effect of Ni interlayer on stress level of CoSi2 films in Co/Ni/Si(100) bi-layered system: Fid-Bau Portal

Effect of Ni interlayer on stress level of CoSi2 films in Co/Ni/Si(100) bi-layered system

Ma, K. / Feng, J. Y.

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Titel:

Effect of Ni interlayer on stress level of CoSi2 films in Co/Ni/Si(100) bi-layered system

Beteiligte:

Ma, K. (Autor:in) / Feng, J. Y. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 252 ; 1679-1684

Erscheinungsdatum:

01.01.2005

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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