Growth and characterization of CoSi2 films on Si (100) substrates: Fid-Bau Portal

Growth and characterization of CoSi2 films on Si (100) substrates

Takahashi, F. / Irie, T. / Shi, J. / Hashimoto, M.

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Titel:

Growth and characterization of CoSi2 films on Si (100) substrates

Beteiligte:

Takahashi, F. (Autor:in) / Irie, T. (Autor:in) / Shi, J. (Autor:in) / Hashimoto, M. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 169-170 ; 315-319

Erscheinungsdatum:

01.01.2001

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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