Thickness determination of thin and ultra-thin SiO2 films by C-AFM IV-spectroscopy: Fid-Bau Portal

Thickness determination of thin and ultra-thin SiO2 films by C-AFM IV-spectroscopy

Frammelsberger, W. / Benstetter, G. / Kiely, J. / Stamp, R.

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Titel:

Thickness determination of thin and ultra-thin SiO2 films by C-AFM IV-spectroscopy

Beteiligte:

Frammelsberger, W. (Autor:in) / Benstetter, G. (Autor:in) / Kiely, J. (Autor:in) / Stamp, R. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 252 ; 2375-2388

Erscheinungsdatum:

01.01.2006

Format / Umfang:

14 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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