Quantitative analysis of surface contaminants on silicon wafers by means of TOF-SIMS: Fid-Bau Portal

Quantitative analysis of surface contaminants on silicon wafers by means of TOF-SIMS

Rostam-Khani, P. / Philipsen, J. / Jansen, E. / Eberhard, H. / Vullings, P.

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Titel:

Quantitative analysis of surface contaminants on silicon wafers by means of TOF-SIMS

Beteiligte:

Rostam-Khani, P. (Autor:in) / Philipsen, J. (Autor:in) / Jansen, E. (Autor:in) / Eberhard, H. (Autor:in) / Vullings, P. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 252 ; 7255-7257

Erscheinungsdatum:

01.01.2006

Format / Umfang:

3 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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