Oxidation of very low energy nitrogen-implanted strained-silicon: Fid-Bau Portal

Oxidation of very low energy nitrogen-implanted strained-silicon

Kelaidis, N. / Skarlatos, D. / Ioannou-Sougleridis, V. / Tsamis, C. / Komninou, P. / Kellerman, B. / Seacrist, M.

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Titel:

Oxidation of very low energy nitrogen-implanted strained-silicon

Beteiligte:

Kelaidis, N. (Autor:in) / Skarlatos, D. (Autor:in) / Ioannou-Sougleridis, V. (Autor:in) / Tsamis, C. (Autor:in) / Komninou, P. (Autor:in) / Kellerman, B. (Autor:in) / Seacrist, M. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B -LAUSANNE- ; 135 ; 199-202

Erscheinungsdatum:

01.01.2006

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

0921-5107

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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