Electrical property of HfOxNy-HfO2-HfOxNy sandwich-stack films: Fid-Bau Portal

Electrical property of HfOxNy-HfO2-HfOxNy sandwich-stack films

Jiang, R. / Xie, E. / Chen, Z. / Zhang, Z.

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Titel:

Electrical property of HfOxNy-HfO2-HfOxNy sandwich-stack films

Beteiligte:

Jiang, R. (Autor:in) / Xie, E. (Autor:in) / Chen, Z. (Autor:in) / Zhang, Z. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 253 ; 2421-2424

Erscheinungsdatum:

01.01.2006

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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