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    Titel:

    Characterization of HfOxNy thin film formation by in-situ plasma enhanced atomic layer deposition using NH3 and N2 plasmas

    Beteiligte:

    Lee, Y. B. (Autor:in) / Oh, I. K. (Autor:in) / Cho, E. N. (Autor:in) / Moon, P. (Autor:in) / Kim, H. (Autor:in) / Yun, I. (Autor:in)

    Erschienen in:

    APPLIED SURFACE SCIENCE ; 349 ; 757-762

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2015

    Format / Umfang:

    6 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.35

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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