High-density plasma etching of indium-zinc oxide films in Ar/Cl2 and Ar/CH4/H2 chemistries: Fid-Bau Portal

High-density plasma etching of indium-zinc oxide films in Ar/Cl2 and Ar/CH4/H2 chemistries

Lim, W. T. / Stafford, L. / Song, J. I. / Park, J. S. / Heo, Y. W. / Lee, J. H. / Kim, J. J. / Pearton, S. J.

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Titel:

High-density plasma etching of indium-zinc oxide films in Ar/Cl2 and Ar/CH4/H2 chemistries

Beteiligte:

Lim, W. T. (Autor:in) / Stafford, L. (Autor:in) / Song, J. I. (Autor:in) / Park, J. S. (Autor:in) / Heo, Y. W. (Autor:in) / Lee, J. H. (Autor:in) / Kim, J. J. (Autor:in) / Pearton, S. J. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 253 ; 2752-2757

Erscheinungsdatum:

01.01.2006

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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