Comparison of plasma chemistries for the dry etching of bulk single-crystal zinc-oxide and rf-sputtered indium-zinc-oxide films: Fid-Bau Portal

Comparison of plasma chemistries for the dry etching of bulk single-crystal zinc-oxide and rf-sputtered indium-zinc-oxide films

Lim, W. T. / Stafford, L. / Wright, J. S. / Vossa, L. F. / Khanna, R. / Song, J. I. / Park, J. S. / Heo, Y. W. / Lee, J. H. / Kim, J. J.

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Titel:

Comparison of plasma chemistries for the dry etching of bulk single-crystal zinc-oxide and rf-sputtered indium-zinc-oxide films

Beteiligte:

Lim, W. T. (Autor:in) / Stafford, L. (Autor:in) / Wright, J. S. (Autor:in) / Vossa, L. F. (Autor:in) / Khanna, R. (Autor:in) / Song, J. I. (Autor:in) / Park, J. S. (Autor:in) / Heo, Y. W. (Autor:in) / Lee, J. H. (Autor:in) / Kim, J. J. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 253 ; 9228-9233

Erscheinungsdatum:

01.01.2007

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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