Dry etching of bulk single-crystal ZnO in CH4/H2-based plasma chemistries: Fid-Bau Portal

Dry etching of bulk single-crystal ZnO in CH4/H2-based plasma chemistries

Lim, W. / Voss, L. / Khanna, R. / Gila, B. P. / Norton, D. P. / Pearton, S. J. / Ren, F.

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Titel:

Dry etching of bulk single-crystal ZnO in CH4/H2-based plasma chemistries

Beteiligte:

Lim, W. (Autor:in) / Voss, L. (Autor:in) / Khanna, R. (Autor:in) / Gila, B. P. (Autor:in) / Norton, D. P. (Autor:in) / Pearton, S. J. (Autor:in) / Ren, F. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 253 ; 889-894

Erscheinungsdatum:

01.01.2006

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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