Electrical and structural characterization of PLD grown CeO2-HfO2 laminated high-k gate dielectrics: Fid-Bau Portal

Electrical and structural characterization of PLD grown CeO2-HfO2 laminated high-k gate dielectrics

Karakaya, K. / Barcones, B. / Rittersma, Z. M. / van Berkum, J. G. / Verheijen, M. A. / Rijnders, G. / Blank, D. H.

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Titel:

Electrical and structural characterization of PLD grown CeO2-HfO2 laminated high-k gate dielectrics

Beteiligte:

Karakaya, K. (Autor:in) / Barcones, B. (Autor:in) / Rittersma, Z. M. (Autor:in) / van Berkum, J. G. (Autor:in) / Verheijen, M. A. (Autor:in) / Rijnders, G. (Autor:in) / Blank, D. H. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING ; 9 ; 1061-1064

Erscheinungsdatum:

01.01.2006

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

1369-8001

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.38152

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