Structural and optical properties of nitrogen-incorporated HfO2 gate dielectrics deposited by reactive sputtering: Fid-Bau Portal

Structural and optical properties of nitrogen-incorporated HfO2 gate dielectrics deposited by reactive sputtering

He, G. / Fang, Q. / Li, G. H. / Zhang, J. P. / Zhang, L. D.

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Titel:

Structural and optical properties of nitrogen-incorporated HfO2 gate dielectrics deposited by reactive sputtering

Beteiligte:

He, G. (Autor:in) / Fang, Q. (Autor:in) / Li, G. H. (Autor:in) / Zhang, J. P. (Autor:in) / Zhang, L. D. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 253 ; 8483-8488

Erscheinungsdatum:

01.01.2007

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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