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    Titel:

    Evolution of the Microstructure in Electrochemically Deposited Copper Films at Room Temperature

    Beteiligte:

    Pantleon, K. (Autor:in) / Somers, M. A. J. (Autor:in) / Kang, S.-J. L. / Huh, M. Y. / Hwang, N. M. / Homma, H. / Ushioda, K. / Ikuhara, Y.

    Erschienen in:

    Recrystallization and Grain Growth III PART 2 ; 1261-1264

    MATERIALS SCIENCE FORUM ; 558/559

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2007

    Format / Umfang:

    4 pages

    ISSN:

    0255-5476

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.11

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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