Nanoimprint Lithography Based Approach for the Fabrication of Large-Area, Uniformly-Oriented Plasmonic Arrays: Fid-Bau Portal

Nanoimprint Lithography Based Approach for the Fabrication of Large-Area, Uniformly-Oriented Plasmonic Arrays

Lucas, B. D. / Kim, J. S. / Chin, C. / Guo, L. J.

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Titel:

Nanoimprint Lithography Based Approach for the Fabrication of Large-Area, Uniformly-Oriented Plasmonic Arrays

Beteiligte:

Lucas, B. D. (Autor:in) / Kim, J. S. (Autor:in) / Chin, C. (Autor:in) / Guo, L. J. (Autor:in)

Erschienen in:

ADVANCED MATERIALS -DEERFIELD BEACH THEN WEINHEIM- ; 20 ; 1129-1134

Erscheinungsdatum:

01.01.2008

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

0935-9648

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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