Effect of film chemistry on refractive index of plasma-enhanced chemical vapor deposited silicon oxynitride films: A correlative study: Fid-Bau Portal

Effect of film chemistry on refractive index of plasma-enhanced chemical vapor deposited silicon oxynitride films: A correlative study

Naskar, S. / Wolter, S.D. / Bower, C.A. / Stoner, B.R. / Glass, J.T.

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Titel:

Effect of film chemistry on refractive index of plasma-enhanced chemical vapor deposited silicon oxynitride films: A correlative study

Beteiligte:

Naskar, S. (Autor:in) / Wolter, S.D. (Autor:in) / Bower, C.A. (Autor:in) / Stoner, B.R. (Autor:in) / Glass, J.T. (Autor:in)

Erschienen in:

JOURNAL OF MATERIALS RESEARCH -PITTSBURGH THEN WARRENDALE- ; 23 ; 1433-1442

Erscheinungsdatum:

01.01.2008

Format / Umfang:

10 pages

ISSN:

0884-2914

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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