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    Titel:

    Effect of ammonia plasma pretreatment on the plasma enhanced chemical vapor deposited silicon nitride films

    Beteiligte:

    Bose, M. (Autor:in) / Basa, D. K. (Autor:in) / Bose, D. N. (Autor:in)

    Erschienen in:

    MATERIALS LETTERS ; 48 ; 336-341

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2001

    Format / Umfang:

    6 pages

    ISSN:

    0167-577X

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.1105 / 530

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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