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    Dokumentinformationen
    Titel:

    Band bending measurement of HfO2/SiO2/Si capacitor with ultra-thin La2O3 insertion by XPS

    Beteiligte:

    Kakushima, K. (Autor:in) / Okamoto, K. (Autor:in) / Adachi, M. (Autor:in) / Tachi, K. (Autor:in) / Song, J. (Autor:in) / Sato, S. (Autor:in) / Kawanago, T. (Autor:in) / Ahmet, P. (Autor:in) / Tsutsui, K. (Autor:in) / Sugii, N. (Autor:in)

    Erschienen in:

    APPLIED SURFACE SCIENCE ; 254 ; 6106-6108

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2008

    Format / Umfang:

    3 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.35

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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