Charge neutralization using secondary electron shower for shave-off depth profiling by focused ion beam secondary ion mass spectrometry: Fid-Bau Portal

Charge neutralization using secondary electron shower for shave-off depth profiling by focused ion beam secondary ion mass spectrometry

Ishizaki, Y. / Yamamoto, T. / Fujii, M. / Owari, M. / Nojima, M. / Nihei, Y.

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Titel:

Charge neutralization using secondary electron shower for shave-off depth profiling by focused ion beam secondary ion mass spectrometry

Beteiligte:

Ishizaki, Y. (Autor:in) / Yamamoto, T. (Autor:in) / Fujii, M. (Autor:in) / Owari, M. (Autor:in) / Nojima, M. (Autor:in) / Nihei, Y. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 255 ; 1351-1353

Erscheinungsdatum:

01.01.2008

Format / Umfang:

3 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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