Investigations of semiconductor devices using SIMS; diffusion, contamination, process control: Fid-Bau Portal

Investigations of semiconductor devices using SIMS; diffusion, contamination, process control

Lee, J. C. / Won, J. / Chung, Y. / Lee, H. / Lee, E. / Kang, D. / Kim, C. / Choi, J. / Kim, J.

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Titel:

Investigations of semiconductor devices using SIMS; diffusion, contamination, process control

Beteiligte:

Lee, J. C. (Autor:in) / Won, J. (Autor:in) / Chung, Y. (Autor:in) / Lee, H. (Autor:in) / Lee, E. (Autor:in) / Kang, D. (Autor:in) / Kim, C. (Autor:in) / Choi, J. (Autor:in) / Kim, J. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 255 ; 1395-1399

Erscheinungsdatum:

01.01.2008

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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