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    Dokumentinformationen
    Titel:

    Interlayer analysis of HfO2/SiO2/Si by SIMS and HRBS

    Beteiligte:

    Sasakawa, K. (Autor:in) / Fujikawa, K. (Autor:in) / Toyoda, T. (Autor:in)

    Erschienen in:

    APPLIED SURFACE SCIENCE ; 255 ; 1551-1554

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2008

    Format / Umfang:

    4 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.35

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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