Characterization of HfO2 dielectric films with low energy SIMS: Fid-Bau Portal

Characterization of HfO2 dielectric films with low energy SIMS

Jiang, Z. X. / Kim, K. / Lerma, J. / Sieloff, D. / Tseng, H. / Hegde, R. I. / Luo, T. Y. / Yang, J. Y. / Triyoso, D. H. / Tobin, P. J.

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Titel:

Characterization of HfO2 dielectric films with low energy SIMS

Beteiligte:

Jiang, Z. X. (Autor:in) / Kim, K. (Autor:in) / Lerma, J. (Autor:in) / Sieloff, D. (Autor:in) / Tseng, H. (Autor:in) / Hegde, R. I. (Autor:in) / Luo, T. Y. (Autor:in) / Yang, J. Y. (Autor:in) / Triyoso, D. H. (Autor:in) / Tobin, P. J. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 252 ; 7172-7175

Erscheinungsdatum:

01.01.2006

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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