Novel enhanced stressors with graded encapsulated SiGe embedded in the source and drain areas: Fid-Bau Portal

Novel enhanced stressors with graded encapsulated SiGe embedded in the source and drain areas

Naumann, A. / Kronholz, S. / Mowry, A. / Ostermay, I. / Bierstedt, H. / Trui, B. / Dittmar, K. / Kucher, P. / Bartha, J. W. / Kammler, T.

Zugriff

Zugriff über TIB

Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen

Bestellung bei Subito €

Seitennavigation

Dokumentinformationen

Ähnliche Titel

Exportieren, teilen und zitieren

Novel enhanced stressors with graded encapsulated SiGe embedded in the source and drain areas

Naumann, A. / Kronholz, S. / Mowry, A. / Ostermay, I. / Bierstedt, H. / Trui, B. / Dittmar, K. / Kucher, P. / Bartha, J. W. / Kammler, T.

Novel enhanced stressors with graded encapsulated SiGe embedded in the source and drain areas

Naumann, A. / Kronholz, S. / Mowry, A. / Ostermay, I. / Bierstedt, H. / Trui, B. / Dittmar, K. / Kucher, P. / Bartha, J. W. / Kammler, T.

Zugriff

Zugriff über TIB

Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen

Bestellung bei Subito €

Seitennavigation

Dokumentinformationen

Ähnliche Titel

Exportieren, teilen und zitieren

Dokumentinformationen

Titel:

Novel enhanced stressors with graded encapsulated SiGe embedded in the source and drain areas

Beteiligte:

Naumann, A. (Autor:in) / Kronholz, S. (Autor:in) / Mowry, A. (Autor:in) / Ostermay, I. (Autor:in) / Bierstedt, H. (Autor:in) / Trui, B. (Autor:in) / Dittmar, K. (Autor:in) / Kucher, P. (Autor:in) / Bartha, J. W. (Autor:in) / Kammler, T. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B ADVANCED FUNCTIONAL SOLID STATE MATERIALS ; 154-155 ; 95-97

Erscheinungsdatum:

01.01.2008

Format / Umfang:

3 pages

ISSN:

0921-5107

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

Ohyama, H. / Nagano, T. / Takakura, K. et al. | British Library Online Contents | 2008

Novel embedded floor drain cleaning device

LI ZHIPENG | Europäisches Patentamt | 2023

Freier Zugriff

Source/drain engineering for MOSFETs with embedded-Si:C technology

Itokawa, H. / Yasutake, N. / Kusunoki, N. et al. | British Library Online Contents | 2008

SiGe/Si PMOSFET using graded channel technique

Lin, Y. M. / Wu, S. L. / Chang, S. J. et al. | British Library Online Contents | 2005

Leakage current study of Si1-xCx embedded source/drain junctions

Simoen, E. / Vissouvanadin, B. / Taleb, N. et al. | British Library Online Contents | 2008

Nach oben